印刷电路板

IATF16949 / ISO9001 /ISO14001/ISO13485/GBT29490体系认证企业
汽车类PCB

层数:3L
板厚:6.5mm
最小孔径:1.5mm
最小线宽/线距:2.0mm
内层铜厚: 4.0mm
外层铜厚: 3OZ
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离:/
最小孔径:1.5mm
最小线宽/线距:2.0mm
内层铜厚: 4.0mm
外层铜厚: 3OZ
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离:/

层数:6L
板厚:1.6mm
最小孔径:0.1mm
最小线宽/线距:0.1mm/0.1mm
内层铜厚:18μm
外层铜厚:28μm
表面处理:化金 ENIG
孔到线最小距离:0.15mm
板厚:1.6mm
最小孔径:0.1mm
最小线宽/线距:0.1mm/0.1mm
内层铜厚:18μm
外层铜厚:28μm
表面处理:化金 ENIG
孔到线最小距离:0.15mm

层数:L2
板厚:1.6mm
最小孔径:0.8mm
最小线宽/线距:0.25/0.25mm
内层铜厚: /
外层铜厚: 局部 5-10μm
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离:/
板厚:1.6mm
最小孔径:0.8mm
最小线宽/线距:0.25/0.25mm
内层铜厚: /
外层铜厚: 局部 5-10μm
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离:/

层数:4L
板厚:5.0mm
最小孔径:1.0mm
最小线宽/线距:0.5/0.27mm
内层铜厚: 3.0mm
外层铜厚: 1OZ
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 控深铣+折弯
板厚:5.0mm
最小孔径:1.0mm
最小线宽/线距:0.5/0.27mm
内层铜厚: 3.0mm
外层铜厚: 1OZ
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 控深铣+折弯
工控类PCB

层数:36L
板厚:8.0±0.8mm
最小孔径:0.525mm
最小线宽/线距:0.0762/0.2388mm
内层铜厚: 2/1OZ
外层铜厚: 53-73μm
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.2mm

层数:1L+铝基
板厚:2.0mm
最小孔径:/
最小线宽/线距:0.3mm
内层铜厚: /
外层铜厚:4OZ
表面处理:喷锡 HASL
孔到线最小距离:/

层数:4L
板厚:4.0mm
最小孔径:0.65mm
最小线宽/线距:/
内层铜厚: 4OZ
外层铜厚: 4OZ
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: /

层数:14L
板厚:2.0±0.2mm
最小孔径:0.275mm
最小线宽/线距 0.1/0.125±20%
内层铜厚:H/HOZ 1/1OZ
外层铜厚:33-53μm
表面处理:沉锡 Immersion Tin
孔到线最小距离:0.2mm
消费类-PCB

层数:4L-6L
板厚:0.3-0.4mm
最小孔径:0.075mm
最小线宽/线距:0.05mm
内层铜厚:0.012mm
外层铜厚 0.025mm
表面处理:化镍钯金ENEPIG
孔到线最小距离:0.1mm

层数:2L
板厚:0.12mm
最小孔径:0.1mm
最小线宽/线距:0.05mm
内层铜厚:0.012mm
外层铜厚:0.02mm
表面处理:化金ENIG
孔到线最小距离:0.1mm

层数:2L
板厚:0.12mm
最小孔径:0.1mm
最小线宽/线距:0.05mm
内层铜厚:0.012mm
外层铜厚:0.02mm
表面处理:化金ENIG
孔到线最小距离:0.1mm

层数:8L
板厚:1.45mm
最小孔径:0.25mm
最小线宽/线距:5/3.6mil
内层铜厚:HOZ
外层铜厚:1OZ
表面处理:化金 ENIG
孔到线最小距离:0.25mm
医疗器械类-PCB

层数:12L
板厚:1.6mm
最小孔径:0.45mm
最小线宽/线距:0.09mm/0.1mm
内层铜厚:18μm
外层铜厚:25μm
表面处理:化金 ENIG
孔到线最小距离:0.18mm

层数:14L
板厚:2.0mm
最小孔径:0.25mm
最小线宽/线距:0.1mm/0.1mm
内层铜厚:18μm
外层铜厚:35μm
表面处理:化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.2mm

层数:8L
板厚:0.8mm
最小孔径:0.2mm
最小线宽/线距:3.5/3mil
内层铜厚:HOZ
外层铜厚:1OZ
表面处理:化金 ENIG
孔到线最小距离:0.18mm

层数:16L
板厚:2.0mm
最小孔径:0.2mm
最小线宽/线距:0.08mm
内层铜厚:HOZ
外层铜厚:1OZ
表面处理:化金ENIG
孔到线最小距离:0.16mm
通讯类-PCB

层数:8L
板厚:1.20mm
最小孔径:0.25mm
最小线宽/线距:0.081/0.127mm
内层铜厚:H/H
外层铜厚:15-33μm
表面处理:化金 ENIG+OSP
孔到线最小距离:/

层数:6L(1+4BV+1)
板厚:0.6mm
最小孔径:0.1mm
最小线宽/线距:0.075mm/0.075mm
内层铜厚: 18μm
外层铜厚: 28μm
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.18mm

层数:4L
板厚:1.0mm
最小孔径:0.2mm
最小线宽/线距:0.127mm
内层铜厚: 1OZ
外层铜厚: 1.5OZ
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.2mm

层数:28L
板厚:6.5mm
最小孔径:0.7mm
最小线宽/线距:0.1mm
内层铜厚: 1OZ
外层铜厚: TOZ+
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.18mm
高频微波类-PCB

层数:2L
板厚:0.6mm
最小孔径:0.8mm
最小线宽/线距:0.12mm
内层铜厚:/
外层铜厚:1OZ
表面处理:沉锡 Immersion Tin
孔到线最小距离:/

层数:4L+铜基
板厚:5.6mm
最小孔径:0.35mm
最小线宽/线距:1.25mm
内层铜厚: HOZ
外层铜厚: 1OZ
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.185mm

层数:6L
板厚:3.0mm
最小孔径:0.3mm
最小线宽/线距:0.25mm
内层铜厚: 1OZ
外层铜厚: 1OZ+Plating
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.2mm

层数:4L
板厚:2.0mm
最小孔径:0.3mm
最小线宽/线距:0.175mm
内层铜厚: HOZ
外层铜厚: 1OZ
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.18mm
通讯类-PCB

层数:6L
板厚:1.6mm
最小孔径:0.2mm
最小线宽/线距:0.075mm/0.075mm
内层铜厚: 35μm
外层铜厚: 35μm
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离:0.16mm

层数:10L
板厚:1.0mm
最小孔径:0.1mm
最小线宽/线距:0.075mm/0.075mm
内层铜厚: 35μm
外层铜厚: 35μm
表面处理: 化金+金手指+斜边ENIG+OSP+Beveling of G/F
孔到线最小距离:0.16mm

层数:4L
板厚:0.3±0.05mm
最小孔径:0.3mm
最小线宽/线距:0.0508/0.084mm
内层铜厚: H/HOZ
外层铜厚: 17-23μm
表面处理: 化学镍钯金 ENEPIG
孔到线最小距离: 0.2mm

层数:6L
板厚:0.3±0.05mm
最小孔径:0.6mm
最小线宽/线距:0.05/0.05mm
内层铜厚: T/TOZ
外层铜厚: 15-33μm
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离: 0.2mm

层数:8L
板厚:3.2mm
最小孔径:0.4mm
最小线宽/线距:0.25/0.25mm
内层铜厚: 1OZ
外层铜厚: 2OZ
表面处理: OSP
孔到线最小距离: 抗氧化 OSP

层数:4L
板厚:4.8mm
最小孔径:0.5mm
最小线宽/线距:0.15mm
内层铜厚: LOZ
外层铜厚: LOZ+plating
表面处理: 化金 ENIG
孔到线最小距离:0.35mm

层数:6L
板厚:1.1mm
最小孔径:0.3mm
最小线宽/线距:0.15mm
内层铜厚:LOZ
外层铜厚:HOZ+plating
表面处理:电镀金 Gold Plating
孔到线最小距离:0.25mm

层数:8L
板厚:硬板 1.95-2.35mm FPC0.66±0.06mm
最小孔径:0.6mm
最小线宽/线距:0.122mm
内层铜厚: H/HOZ
外层铜厚: 45-60μm
表面处理: 喷锡 HASL
孔到线最小距离: 0.38mm
其他产品解决方案

产品:IGBT载板
基材材质:氮化硅
基材材质:氮化硅
基材厚度:0.32mm
最小线宽/线距:0.50mm/0.50mm
表面处理:OSP
应用领域:高电压、大电流、功率模块、
IGBT
IGBT
特殊工艺:无空洞钎焊,厚铜精准蚀刻

产品:IGBT载板
基材材质:氧化铝
基材材质:氧化铝
基材厚度:0.635mm
最小线宽/线距:0.40mm/0.40mm
表面处理:OSP
应用领域:高电压、大电流、功率模块、
IGBT
IGBT
特殊工艺:厚铜精准蚀刻

产品:功率模块载板
基材材质:99.6%氧化铝
基材材质:99.6%氧化铝
基材厚度:0.5mm
最小线宽/线距:0.10mm/0.10mm
表面处理:正面:Ni/Au≥4μm;背面:Ni/Au≥0.5μm;
应用领域:航空航天、武器装备
特殊工艺:Φ0.2mm通孔填孔,面铜5±1μm,Rz≤2μm

产品:陶瓷基板(TEC)
基材材质:氧化铝
基材厚度:0.5mm
最小线宽/线距:/
表面处理:化学镍钯金
应用领域:TEC致冷片
特殊工艺:/

产品:LD热沉(COS)
基材材质:氮化铝
基材厚度:0.34mm
最小线宽/线距:/
表面处理:电镀镍金
应用领域:LD半导体激光COS封装
特殊工艺:预制金锡共晶

产品:微带环形器
基材材质:铁氧体
基材材质:铁氧体
基材厚度:0.5mm
最小线宽/线距:0.10mm/0.10mm
表面处理:电镀纯金
应用领域:微带环形器
特殊工艺:多种金属混合溅射,25μm金丝拉力≥9g

产品:微带隔离器
基材材质:铁氧体
基材厚度:0.4mm
最小线宽/线距:0.10mm/0.10mm
表面处理:Cu≥4μm,Au≥2.5μm
应用领域:微带隔离器
特殊工艺:金线路精准蚀刻,TaN隔离电阻,阻值40-50Ω精准控制

产品:薄膜电容
基材材质:氮化铝
基材厚度:0.4mm
最小线宽/线距:0.15±0.005mm/0.07±0.005mm
表面处理:正面:Au≥1.0μm;背面:Au≥0.5μm;
应用领域:电容器
特殊工艺:最小线宽30μm,精准蚀刻厚金